會員中心
現(xiàn)在消費者對產(chǎn)品的要求越來越高，產(chǎn)品不僅要有顏值(外觀好看)，也要有內涵(功能性)，還有環(huán)保!
企業(yè)若能在產(chǎn)品增添以上三項元素，將可大大擴展市場份額!
而在這三項元素中，顏值是吸引消費者最直觀的因素。顏值跟產(chǎn)品的表面處理工藝息息相關，近日香港生產(chǎn)力促進局推出為硅膠和電鍍產(chǎn)品研發(fā)新的表面處理工藝，可大幅改善產(chǎn)品功能!
以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性，將負極硅膠表面改為正極
硅膠產(chǎn)品防塵處理環(huán)保工藝
硅膠是一種耐熱的橡膠，可抵受高溫，相比其他物料，硅膠具備生物相容特性，制成的產(chǎn)品相當耐用，適用于食品、醫(yī)療及工業(yè)等行業(yè)。但硅膠表面容易沾塵，生產(chǎn)商一般以化學噴涂方法，使硅膠產(chǎn)品表面防塵和更平滑，但這種工藝不但成本高，更影響生態(tài)環(huán)境，危害人體健康。
理論上，硅膠表面存有氧氣原子，帶負極和靜電，塵粒則帶有正極，因此塵粒和硅膠靜電表面可互相吸引，使表面沾塵及難于清理，影響產(chǎn)品外觀和功效。
針對硅膠表面容易沾塵的問題，生產(chǎn)力局研發(fā)團隊致力研究解決方案，結果發(fā)現(xiàn)，利用等離子表面改性技術可改善有關表現(xiàn)，最終成功以等離子體輔助化學氣相沉積(PECVD)技術，達致優(yōu)化產(chǎn)品表面性質的效果。
生產(chǎn)力促進局智能制造及材料科技部高級顧問盧偉賢博士指出，受靜電影響，一般硅膠容易沾塵，廠商若以傳統(tǒng)化學涂層方法，防塵及潤滑涂層功效只可維持數(shù)個月。
嶄新的方法是以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性，將負極硅膠表面改為正極，過程中使用無害的有機化學品，不會排出污染廢料，因此是清潔生產(chǎn)工藝。其較低靜電量特質，防塵效用高，適用于高檔產(chǎn)品，如眼鏡框，手表表帶等，亦可用于醫(yī)療設備及運動產(chǎn)品，令這些產(chǎn)品有更佳表現(xiàn)。
等離子體表面處理技術適用于纖維、聚合物和塑膠等物料，亦可應用于清洗、活化及蝕刻金屬、塑膠與陶瓷材料的表面部份，改變材料表面的物理特征。
一旦加入少量的化學氣體，把材料表面進行化學性能微調，便可改善材料表面功能，提供親水或疏水性、易潔、防污或調整靜電物料表面等增值功能。此技術更于2014年獲頒香港工商業(yè)獎優(yōu)異證書。
硅膠產(chǎn)品防塵處理環(huán)保工藝，可有效解決硅膠靜電、容易沾塵問題，延長產(chǎn)品壽命，是一種綠色表面處理工藝。它可應用于所有硅膠及相關產(chǎn)品。
厚離子鍍層低成本制作方案
高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(HPPMS)是結合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新型磁控濺射系統(tǒng)。在鍍層過程上，電源扮演重要的角色，采用「高能量」和「脈沖式」的放電方式，可于少于2微秒的短時間，發(fā)出高達1500V輸出電壓的強大能量，猶如閃電現(xiàn)象。
由于過程中釋放大量的離子，消除鍍膜的內應力，因此可制成厚離子鍍層，無損產(chǎn)品或工件的表面。這種方式可提高離化率(IonizationRate)，即改善涂層在產(chǎn)品表面的附著力。
高能量脈沖式等離子磁控濺射技術，能超越傳統(tǒng)的磁控濺射方法，制作出高質量多于3μm的厚離子鍍層。由于高能量脈沖方式有利增加離子的密度，不但加強鍍層與底材之間的接合力，亦可減低表面粗糙度，在功能性部件上可進一步增強耐磨性能及減少替換次數(shù)。
對裝飾性強的產(chǎn)品來說，可保持外觀及更耐用，因此以高能量脈沖式制作鍍層，能有效利用等離子體，從而控制涂層的結構，其最大特色是可沉積在光滑致密的微細結構，提升耐腐蝕性及表面光潔度;又或是可沉積在復雜的幾何工件之上，達致更均勻的涂層。
企業(yè)只需在現(xiàn)有的真空離子電鍍設備上增設HPPMS脈沖機，投資成本低，極具成本效益。
盧偉賢博士表示：“此技術可說是真空離子電鍍的延伸技術，有助廠商開拓更高技術水平的市場。可協(xié)助金屬加工業(yè)，如：鐘表、電子產(chǎn)品、刀具及模具業(yè)等擴展市場，提供更高質量及高效能的產(chǎn)品，長遠提升競爭力。”
