光催化氧化設(shè)備利用高臭氧UV紫外線光束、氧化反應(yīng)催化劑、高離子發(fā)生裝置的組合工藝降解有 機(jī)廢氣，改變惡臭、刺激型氣體，光催化氧化設(shè)備擁有以下幾個特點(diǎn)：無需添加其他物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使惡臭氣體通過本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無需添加其他物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

光催化氧化設(shè)備優(yōu)勢

1、設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等條件，設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

2、適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

3、運(yùn)行成本低：光催化氧化設(shè)備無其他機(jī)械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。

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